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台积电强调,CoWoS及整合扇出型封装(InFO)仍是2.5D IC封装,为了让芯片效能更强,芯片业花了相当的时间,开发体积小、功能更复杂的3D IC,这项技术需搭配难度更高的硅钻孔(TSV)技术,以及晶圆薄化、导电材质填孔、晶圆连接及散热支持。
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ASML是先的半导体设备厂商,随着工艺技术不断缩,三星在16日宣布5nm极紫外光(EUV)制程开发成功,并传今年将量产6nm,台积电傍晚也宣布推出6nm(N6)制程技术,并预计2020年一季度进入试产。DRAM也即将进入1znm,三星已成功研发出1znm DRAM,并预计于2019 年下半年开始大量生产,DRAM进入1znm节点将需要更精密的EUV设备延续摩尔定律,这离不开对ASML EUV设备的需求。
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自2014年发布《 集成电路产业发展推进纲要》,到2019年政府报告中指出,加大基础研究和应用基础研究支持力度,强化原始创新,加强关键核心技术攻关。 、企业、个人等数据和息的存储,以及推进国产化存储发展,已升级成为 战略,核心技术的自主研发也已成为企业重要的战略部署。
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